致力于投影光刻机研发、生产、销售与服务的上海微电子装备有限公司(SHANGHAIMicroElectronicEquipment；SMEE)，日前在台参与半导体展览，展览了用作PCB以及LED产业光刻机设备。　　此次半导体展览，上海微电子装备有限公司展览SSB500系列Q投影光刻机，基于先进设备的Q光刻机平台技术，获取覆盖面积IC后道PCB、MEMS/NEMS生产的Q投影光刻机。

该系列光刻机使用ghi线的高功率汞灯作为曝光光源，其先进设备的逐场调焦徵平技术对薄胶和厚胶工艺，以及3D-TSV结构等具备较好的自动适应性，并通过使用自律专利的图像智能识别技术，需要专门设计类似对准标记。该系列设备具备高分辨率、低套刻精度和低生产率等一系列优点，可满足用户对设备高性能、高可靠性、较低用于成本(COO)的生产市场需求。

上海微电子SSB300/10AQ投影光刻机，限于于2-6英吋基底LED的PSS和电极的光刻工艺。　　另外，也展览SSB300系列Q投影光刻机，该系列机台限于于2~6英吋基底LED的PSS和电极的光刻工艺。可以应付大翘曲蓝宝石基底的曝光，需要构建2~6英吋基底的自动转换，需要在生产中动态监测基底面型，确保客户在用于过程中仍然不受管状污染的后遗症。

使用高性能削减式物镜保证亚微米分辨率和低曝光均匀分布性、仪器特制运动台系统构建高精度的图形拼凑与准确的套刻。具备较低用于成本、低曝光均匀分布性、高产能等特点，可符合LED生产线的各种用于拒绝。除此之外，该系列机台还需要适应环境硅和SiC等多种基底的曝光、可选背面对准配备，将机台的应用于拓展至MEMS领域。

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